详细摘要： 劳厄单晶定向仪是为晶体定向和表征单晶设计的实时Laue相机
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孚光精仪（中国）有限公司
详细摘要： 脉冲激光沉淀系统工作站PLD是氧化还原系统，脉冲激光沉积（PLD）是一种用于薄膜沉积的多用途工艺，其主要优点是将化学计量的材料从靶转移到衬底
产品型号：FPSUR-PLD-Workstation所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 激光分子束外延系统LaserMBE是新型激光薄膜制备技术设备,它集成了普通分子束外延（MBE）的超高真空、原位监测的优点和脉冲激光沉积（PLD）的易于控制化学组...
产品型号：FPSUR-LASER-MBE所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 超高真空激光分子束外延集群系统lasercluster将不同的薄膜和分析技术结合成一个强大的系统
产品型号：FPSUR-Laser-Cluster所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 光束线同步PLD系统,新型脉冲激光沉积系统适合原位同步衍射/散射研究,精确了解影响薄膜界面形成和生长的机制
产品型号：FPSUR-Beamline所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 磁控溅射系统MagSput是下一代磁控溅射沉积系统，实用性腔,可扩展性高,且高度可靠,非常适合磁控溅射镀膜科学研究
产品型号：FPTOR-MagSput所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE由射频电源感应产生等离子体,以产生各向异性蚀刻
产品型号：FPTOR-ICPRIE所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 科研型原子层沉积系统ALD系芬兰picosun公司R-200standard原子层沉积技术,具有的热壁设计和单独的入口，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和...
产品型号：FPPIC-R-200-standard所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 等离子体增强原子层沉积系统采用更大的腔室和等离子ALD模块,获得更好的原子层沉积效果
产品型号：FPCTE-Play所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： ALD系统AT410提供了用于3D样品制备的共形导电薄膜解决方案，同时还提供了目前使用溅射/蒸发生长的传统2D涂层
产品型号：FPANR-AT410所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： COVAP物理气相沉积系统为许多工艺应用提供紧凑、经济、但仍然稳健的PVD解决方案
产品型号：FPANG-COVAP所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 多功能物理气相沉积平台可搭载溅射,热蒸发,电子束蒸发,等离子体和离子束处理功能模块,是多功能PVD系统
产品型号：FPANG-AMOD所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 离子束沉积系统IBD采用真空沉积工艺，使用直接聚焦在溅射靶上的宽束离子源实现离子束沉积溅射镀膜
产品型号：FPTOR-IBD所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 真空电阻式热蒸发镀膜机CRTE直径观察口匹配双级旋转叶片泵的涡轮分子真空泵系统带沉积控制器的石英晶体厚度传感器带数字显示和读数的全量程真空计最多四个带独立百叶窗...
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详细摘要： 电子束-电阻热蒸发复合镀膜系统集合了电子束沉积镀膜和电阻式热蒸发镀膜沉积功能
产品型号：FPTOR-EB4P所在地：更新时间：2023-03-30 在线留言
详细摘要： 反应离子刻蚀系统RIE600W是一款进口等离子体反应离子蚀刻机,用于各向同性蚀刻,蚀刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜
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详细摘要： 这款多功能紧凑型MBE系统具有三个腔室,适合用于А3В5,宽带А2В6和А3N化合物（订制版本）的生长,MBE系统设计吸收了这些材料系统中分子束外延的成果,非常...
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